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IPO专题:新股精要-国内薄膜沉积设备龙头拓荆科技
时间:2022-03-31 21:41:05  来源:引领外汇网  
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本报告导读:

拓荆科技(688072.SH)是国内半导体设备行业领军企业,产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平,随着国内半导体设备需求快速增长和国产化趋势,公司业绩有望高速增长。公司2021年实现营业收入7.58亿元,归母净利润。068亿元。

截至3 月29 日,可比公司对应2021 年平均PS(LYR)为21.14 倍。

摘要:

公司核心看点及IPO 发行募投:(1)公司国内薄膜沉积设备龙头,研发实力领先,是国内唯一产业化应用PECVD 和SACVD 的厂商,在国内市场能够与国际龙头开展直接竞争。随着全球晶圆厂持续扩产,海外设备供给有限背景下国产率提升空间巨大,公司有望长期收益。(2)公司本次公开发行股票为不超过3163.98 万股,发行后总股本不超过12647.88 万股。本次募投项目拟投入资金合计10.00 亿元,吉比特(603444):深耕游戏市场 自主研发能力强吉比特(603444):深耕游戏市场 自主研发能力强预期项目建成后将有利于公司进一步扩大生产经营规模和提高技术研发实力,从而提升公司核心竞争力。

主营业务分析:公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,主要产品包括PEVCD 设备、ALD 设备和SAVCD 设备三个产品系列,其中PEVCD 产品收入高速增长。随着公司营业收入的迅速增长,公司的期间费用率呈现下降趋势,毛利率在2021 年出现大幅提升。

行业发展及竞争格局:半导体设备行业发展前景良好,薄膜沉积设备市场需求持续稳定增长。半导体行业的持续扩产发展为上游行业带来新的设备和技术需求。从全球市场来看,薄膜沉积设备行业呈现出高度垄断的竞争局面,行业基本国际巨头垄断。国内半导体设备有严重的进口依赖,近年来进口替代需求愈加迫切。半导体制造国产化和国际环境将倒逼我国半导体行业提高产业链发展水平,国内半导体生态圈将逐步完善。

可比公司估值情况:公司所在行业“C35 专用设备制造业”近一个月(截至3 月30 日)静态市盈率为35.58 倍。根据招股意向书披露,选择中微公司( 688012.SH)、芯源微( 688037.SH)、盛美上海(688082.SH)作为可比公司。截至2022 年3 月30 日,可比公司对应2021 年平均PS(LYR)为21.14 倍。

风险提示:1)尚未盈利及持续亏损风险;2)收入高度依赖PEVCD系列产品的风险。

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